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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決0 ?. r7 Y: Z, ^. S) f
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
" B+ r. e5 O+ E孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
, o3 c3 x0 \8 k  U% O. j的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
/ A+ i# P- w* H' h) U9 i
6 E: t4 M8 |: \" i: T$ Q 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單& \/ B0 `9 l; B8 V

- f$ b" j+ O# h 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
8 R* s" d  t6 n9 ~8 D2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂
% j, \* [5 b% |2 x0 q1 C# j2 f7 K單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉8 Z" e$ d" E9 x
高到20億美元、年增25%。
# C; |* b, S; \$ O 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到( k& G& A7 g3 M, Z; o
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆0 V% ], R- @9 O; X
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂! o$ `5 }4 E5 E8 U) c# D$ J+ v) P
單掌握度也愈來愈高。+ `8 g+ v0 @0 r
 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
0 q# b& q' O* H2 Z- D片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決' r  ~8 l! e" M8 T% z  \! ^
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
; z' z& h5 m; V. h* l* m' i2 ~能,所以今年資本支出將增加到20億美元。7 Y2 D) D/ W& h
 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
7 T/ w1 _% ]- Q6 }7 ]完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,4 x! b- j; @1 Z' y% T
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
' n5 }6 r/ n- M  g後將帶來豐厚的收穫。
; S* H& p6 G( b7 X2 _% B. V' R$ G6 r 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%
* |* N2 h0 w0 |6 h: J8 j,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
4 A* Y: h' w/ ?  G& U米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款* |% N! ]9 }/ P3 ?6 Y
OMAP 5多核心應用處理器。9 G: u5 R$ G- I7 g# i$ @
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
$ U# r* L3 H8 m& J為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
7 g, q0 _8 {3 o電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
1 K- C2 c: x% f* z及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源. O/ h* ]6 K* F5 u+ D9 x1 j" _
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)7 Q1 Q" `1 {) A" |% Y8 X# I8 u1 ?* c4 c

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8 \# |- [8 X6 h6 P+ t
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
# G9 S- I; T7 y5 S2 Q1 E的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
; T% C  _' n6 D( J# O2 R+ x( w$ M
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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