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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決$ P$ B$ ]5 ^! P2 |: b$ [
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長$ B- Z1 ~  W+ E) g
孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
* S* g( }, b. c/ ]) d: e6 @5 g# m3 e的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。4 _6 A3 f5 m; W% n7 C- [/ D
: y5 L! |- f5 e& l2 R$ r
 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單( `0 T' v3 Y# Z! _+ y- w( T

/ E  |5 V  p1 o" c4 s  K0 X0 k& R  n 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
1 N' t5 V% P: F2 }. D2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂" \* J5 G7 T& U* B' T
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
7 Q" t% ^$ B8 I( h- v# V$ F高到20億美元、年增25%。
) C" l. ^( |7 j$ f5 E, v 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到% U. V* ~" f. ~7 o
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆) V5 X( B* w5 g7 r/ |
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂4 I) M+ t' J' x4 l& u) K% E
單掌握度也愈來愈高。
1 A5 |/ O' ]: q0 D& i. W5 ? 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶2 r- U( S2 H" l. S) e
片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
( |- \; Y& z+ U+ \! D; Y1 B方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
* `  Q: C& w) A0 d# z能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
) t2 o* ?( b5 B) d' ]. Q2 x( E 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
' _+ r" q# ~' X" J9 H% y) w完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,1 K$ F( a3 @& k- [: t7 S9 _, {. f
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
9 [. X1 ]0 `+ o( m# K7 |後將帶來豐厚的收穫。* P+ l" h- v" b! o3 e; o" @9 G
 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%$ e, ^& K) C& b
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
3 j0 W* F: I# J. G米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款3 q  c: [% Z* z0 Q5 w, j
OMAP 5多核心應用處理器。6 R9 p4 `+ e7 S0 W9 j+ D2 a1 F
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並/ K7 J( t9 T* `; K- n
為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯" Q: `0 i; G( c$ [* V. p6 R# E
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
( l. l' J& C+ V$ }9 F- |及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源9 x$ d2 f0 a2 _+ R. d, h
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)
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在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠( r1 L: L0 F& r9 s0 e3 s
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。# v- V" H! e" N& J
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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