- UID
- 4355
- 閱讀權限
- 45
- 精華
- 0
- 威望
- 3
- 貢獻
- 3897
- 活力
- 11257
- 金幣
- 44043
- 日誌
- 9
- 記錄
- 37
- 最後登入
- 2017-12-9
 
- 社區
- 臺灣
- 文章
- 9422
- 在線時間
- 1428 小時
|
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決! b& H+ z* Q" T3 _& h& G! T0 w
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
' G; N! v ?4 `; ~: t$ h$ h孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
! {6 V/ o0 Y8 Y的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
! _& N# n$ i% ?% x
1 g* ]. y3 w5 F) X) W& x 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單; H5 i; I) S" n6 u
。& J, n% ^2 k& L) U% s" V
聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中8 R4 ^7 q( ?5 {, Z0 w! u
2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂, e% p1 Y+ g; ?8 g+ l ]
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
+ C$ X$ w6 o5 X2 c, P高到20億美元、年增25%。
0 w2 U) U0 B" P ?( s 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到5 C; f1 Q2 p7 a; ~- v+ o+ p
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
; Q+ [! u3 K: L勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂0 k0 R- m+ @/ D0 p$ x
單掌握度也愈來愈高。) O1 M- ^8 L V6 R: \9 g, W4 [
孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
6 m1 }! |0 U1 M! U: I* O& a( _片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
$ A- x0 l8 ]4 m5 J6 w; ~方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產7 r, L- F0 [; V" a
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。* V/ b4 g6 [" e4 y
孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
1 A' | M7 H. N7 {# T' v完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
- i6 p$ r/ c: T6 t* l% I% q以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位8 T7 ^! O( Z+ O5 Q* f" X) r
後將帶來豐厚的收穫。
* i1 j: d; U# O) [6 M' ] 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%
7 G- Z! S1 b4 \2 i( y G/ U,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈8 ^9 g1 u, I' A/ \ ~- P- U
米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款6 o7 G) H1 _ e) s# {& G! t5 ^, W. \) S
OMAP 5多核心應用處理器。
& U- y: _1 \, x. X: p. s 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
" \4 o4 j5 V; }6 x為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
. K3 b; t% k/ A5 B" J電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
+ z8 r9 E/ f6 `( r$ I/ U& Q" u及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源( n6 e. p! b" q: Y" {) D
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)" y, C1 c3 P- J. z
; Z6 ^/ r9 {* X0 T. D: `' l! m: p- } f7 f, p
! c8 y7 X! `' s! M4 W' I |
|