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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
# w. Y, F* B  P/ d+ {& _定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長7 K/ ^  n' J  Q4 m
孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠8 a; Y" _  H7 R: f7 s- K
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
! z  s$ a+ z3 O0 v2 q/ Z% \& y- C, |5 T, o
 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單! R! e% b% U) s) c3 Z8 ]
; h) Y) p7 b, _% O+ u# g2 y
 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
4 v. p, a3 F5 c7 m0 b0 N2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂
2 n/ O1 M! x) x- f% T2 i, s! b單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉3 u. ~4 ]  g/ ^) a7 U, l
高到20億美元、年增25%。4 ^5 V' u( y" q  {9 m! a- A5 B
 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到
! L2 |( a7 r/ R6 {; [今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
7 X, {& y$ B: ?2 V% A- |2 i" J7 g# I; U勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
9 _: Z7 j# j; [. [: V單掌握度也愈來愈高。
8 \( q( ~) Q- u1 h% f- P; k) N 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶7 I+ N9 g! O3 V6 Q" T+ Y
片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決: H0 s9 z" m( v& K" A2 E9 ]/ Q4 L
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產/ h7 ^" d% Z8 }5 R& ^' d/ {3 Q
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
- L  e9 l  W2 J: S: D8 r' k 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
7 ~1 c! O' {5 }. z* m完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,& X, \! R! i5 J2 f
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
! E4 ]; O( e9 {後將帶來豐厚的收穫。
8 K- }  N8 r. x; O 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%0 ~+ T& d: \* W  V
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
1 K2 C0 i. v$ q9 Y- e, w- z1 s  Z米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款9 N+ U8 R7 y) y
OMAP 5多核心應用處理器。- l1 y1 j3 b0 o0 R
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
. n* _  F. Z4 J2 C* D為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
0 w, }: d  ^( ^1 o% [$ Q  d1 r電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達- B+ [5 M/ _! X" Y/ Q
及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
/ _1 }. d* Z" k4 @! m" o/ j$ O:工商時報─記者涂志豪/台北報導)
; z7 _, w3 C) V, [8 i" J( ]( o7 h0 I' ]
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! g1 o) a9 p0 X% Q) j
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
$ p1 @, z, w+ a2 B% U! w的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
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