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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決$ n8 z6 u" p: i/ e, X
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長6 Y& d3 [% p: I7 \! f$ F7 [
孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠' _2 Z1 T- D6 h! r5 \) i& r9 @
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
4 P6 r% `0 }3 \8 j  ~- M  F7 n
9 v, e) p2 \! _ 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單0 }- ?7 |( z- N& L7 K

1 ]6 E) H2 A% R5 }) V 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
3 `0 E. F& f7 R0 g2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂  G+ m3 a6 W$ h/ q- T+ e
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
. b. m" q- V, c, X' T2 A高到20億美元、年增25%。
: r9 a: M- _; o: M 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到( i5 X" a3 K/ @2 W# D
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆2 {: t8 c3 U- G* I% W/ ~8 o
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂  O4 ]' @5 o$ Z
單掌握度也愈來愈高。* U" l% Y$ Y$ o) M
 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
6 `2 T' g, g$ h. `片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決3 I# I; [' P, R( t
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
& y6 b+ B: b0 f, v) M( [能,所以今年資本支出將增加到20億美元。$ K7 ]/ z5 X7 {5 E" @
 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,0 {0 ^% p6 i) h2 K9 I8 t. Y: H
完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
: }8 `- N# B  U" \以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
& G; Q. L. W, M# [. r+ K. f9 |* p後將帶來豐厚的收穫。
: S. ^$ L3 y" q" A7 b 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%
2 F: f% ^( v5 [$ T* `,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
$ X9 o, y8 x0 }( E1 a' C7 [米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款3 U" h/ p" U# I; l& p6 n- o
OMAP 5多核心應用處理器。' p: S( Q# _; b# o" k) Q0 C
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並+ T- C  m* f# E0 a
為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
. S0 n1 G0 V7 Z: m* P電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達5 j) b; }: |4 R& z' u% p3 O4 |
及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
% h: W6 ^3 l5 o  O:工商時報─記者涂志豪/台北報導)0 x1 l+ S; m' [/ R  }- O

4 K* W" ]; H& B  Z
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) J8 a) k) C5 G/ d. I9 f! w
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
3 @  ^0 a" o: |, Y( Z的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。- A- [2 J, z- y- @3 j0 z7 h% r7 U
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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