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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決- R5 \5 e7 ?* l  d9 c. o  n4 [* Z
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
: h8 c. E) C5 _/ c0 i( ]孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠8 [! Z. O, I6 t7 E9 k
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。( d& i) x& t' i. d4 ?

* ^! c- O& y7 M; b9 Q' x4 x 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
4 @3 o5 I! t* g: A4 l5 U
2 Q8 n& y9 c. Y! K4 ]9 W 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
1 }, H* \3 U# \$ ?0 i# e& w2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂0 r- `" a' F  S+ P0 o
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
2 x! \( \6 z/ M6 \高到20億美元、年增25%。
; j  [9 v" y& D2 e 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到( D5 k' t. k0 X/ a6 C7 X
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
1 E' @* m+ g3 f- z3 }) A勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
2 Z/ z2 m8 r* g單掌握度也愈來愈高。
1 E1 S. I- a! @+ B) T 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶5 B! j% g9 [& E( d# \
片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決3 [' e# ^9 W- e2 _
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產1 k$ {5 [) B% ?- L  J
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
6 s& t) d6 v% f( ?. g/ P 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,; }% x$ ?+ N9 o0 v6 U: h
完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
0 m0 ?: _" e! g" g; j9 J' a# [以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
, P( n# Y$ p8 g( E後將帶來豐厚的收穫。
, \" H& s4 a8 k0 L5 t- K 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%$ M. |% e0 S: x1 j8 k; I3 n; j. |
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
* t' Y: J1 T! D( P8 c米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款( `( Q* G1 s# E  p) L$ |
OMAP 5多核心應用處理器。) h. a( m' e* i+ d1 W0 F' n, X
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並& {$ |! u2 I# Z
為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯5 i+ S% b' T! H* a* A! y7 p; ]# |
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
3 t( e1 \" ~* ]9 z3 Z及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
) r3 e/ S9 L. G" d2 h* I. p* L6 N2 E:工商時報─記者涂志豪/台北報導)2 L5 T9 q  y; d) d
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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
7 M8 d/ u9 G; Y4 X& b* x的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。# y" d/ F1 o' Y. r
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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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