- UID
- 4355
- 閱讀權限
- 45
- 精華
- 0
- 威望
- 3
- 貢獻
- 3897
- 活力
- 11257
- 金幣
- 44043
- 日誌
- 9
- 記錄
- 37
- 最後登入
- 2017-12-9
 
- 社區
- 臺灣
- 文章
- 9422
- 在線時間
- 1428 小時
|
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決& o" {: _( C0 R" a3 a
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長9 g# L$ L+ c' |
孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
1 n( U1 k- P( |+ k% g3 I: v6 a7 ~的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。0 w0 c$ h$ F4 P# l* E' m5 C; i
# B. R7 l2 M& U; d 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單% x; @* G3 k! S7 T4 G3 Q( r) i
。
, B1 ^$ w! [! C Q; C6 s 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
/ j* p2 J5 M. ]) [2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂
% f) h2 D$ |2 k* W! w. ]1 ~單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
# r8 P1 b+ u' f3 j, a: P/ U高到20億美元、年增25%。
! U- O Q: M3 k; V: B( J 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到1 P; ~4 V; H2 w5 X
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
: ~+ o- m: O0 e2 B4 M# K勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂' ^" L- P3 E5 k9 ^1 }) \
單掌握度也愈來愈高。
: i. @. U4 D0 D' T. w+ ` 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
5 s* X7 J# H3 X3 r9 u3 {6 C片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
A7 d/ w$ \7 a* j. M+ q9 y方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產3 }1 J9 ]7 h# b& K" _0 n
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
/ n3 ~9 j% q% B& Z 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
; G( K: L, ~8 B% T$ x4 L完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,- `( x" y) u5 Y2 a2 R% p0 O# P3 m( V
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位: X6 h" i& N8 X4 W; {( y: h
後將帶來豐厚的收穫。
! v8 a. c8 \1 `8 b+ O) | 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%$ `5 F& c* d% {. ^( m/ e
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈 Y7 D. ^* m4 ?% F; k- U2 w7 J# E
米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款1 {% P: r6 y0 a1 l: X% x, @
OMAP 5多核心應用處理器。
4 e( ~ N9 A2 Y4 m& N$ t( o 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
+ m7 M! K: m4 P9 R5 [為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
/ N. H6 c! @9 t# H0 k1 ]& A# v電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達/ ~( g2 {$ Z2 a% U) I0 w6 s8 z
及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
0 u! J8 [3 C+ s% G( s9 t3 t* D+ e:工商時報─記者涂志豪/台北報導)8 c" d: ~5 H% c
' _. Y% ]# t ]3 N' V
5 X. _: _/ T; r8 M6 m& g- I7 M2 n& D6 X% O) T" y* X% z
|
|