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【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
! L" R2 B6 E$ I$ z定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
+ a T5 E) r4 P2 [& C孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
+ J( r2 V* D6 S. i [) H0 k5 v的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。" q' U9 Y# o- N. ]3 i
7 u* |+ L, `) y+ W( U- o 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
; z$ a0 P$ N% e! R. f: F& F。
( }* z" U7 v! Z. S 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
! V" f. W9 `* D# b2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂: Y0 E# d7 \( @3 B0 r d+ ?
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
s) ^' G# R1 P" I$ U高到20億美元、年增25%。
l9 B! n) D$ r$ n& F 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到
2 K" n$ }) {# t' S' X今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
( G/ a* w& T- Y5 j4 M勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂# K4 l. ~6 f4 a
單掌握度也愈來愈高。
% T, Y9 L7 g& p/ q' X 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
4 O& \6 F7 }. W# n片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
( s8 t1 X2 j; P! b0 h) L. C方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
' _' Y/ X2 R: t2 a. U! x1 P1 l能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
: O+ ]$ O! G) C8 w 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
) v6 L$ v$ L8 ]/ b. W完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,/ I: r$ `# l2 |5 Q1 K# u& R
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
* h( W/ m' p# Z( @+ o( n% p後將帶來豐厚的收穫。- k1 a0 w$ D+ S; y0 a
聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%
+ w$ d3 V( f) [# z% l- W: q* {- E,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
3 E( z0 @; v+ x8 X米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款
7 A$ _) i" }& V" ~0 l, e) j- Z! ROMAP 5多核心應用處理器。" K! U8 Y8 A; t/ g: ^& S) i
另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並$ o: r/ w+ n6 Z/ F& b1 `( O& \# m5 [
為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯; R( \7 |! \2 n1 @) f: u+ E7 u7 @
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達; k! Y9 ]. o$ _5 ~9 e/ j& z
及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源; k/ K2 l. q6 X9 P6 l. z
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)
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