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【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
" Y+ ^9 P0 V* H' y定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長/ C. m8 W* S- ?& G, y! ]( C
孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
: |2 b0 C4 H9 J$ _3 E I的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。9 ^# |0 G7 Y' T* l! a
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據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
: {1 W: t' V* L! k$ m# s。6 w- m$ A3 d' t9 ^' T! }& L) r6 D
聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
V+ U3 ^" i1 d7 U M2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂0 d4 o1 m" S4 F% j% w# `3 y6 W- Y% u* l" h
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
. {- y& ~% i3 g. Y) @! ^* ^高到20億美元、年增25%。3 @. U6 [7 N1 v4 E5 Y
法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到
$ A$ _5 z7 N; f9 N1 F# p8 _今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆8 }9 A+ }8 V, }" {& _ p
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂$ @8 {8 I- c! Q7 s& G7 _5 ~& r
單掌握度也愈來愈高。0 }' A8 Y0 E6 o. i. Z) }& [- F
孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
7 R* @( b/ y) Z- Z+ q片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決$ X. k. h0 d5 v# g
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
) `# W3 ~& `, ^0 V2 t* ^" |能,所以今年資本支出將增加到20億美元。7 l$ A9 y- K) Z7 k
孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
: e( Q' U" S1 ]( c. k完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
- x# `& Y, I+ N7 Z; \4 ?以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位+ a( q# u9 M5 R8 Y* X p3 w
後將帶來豐厚的收穫。( p+ }& k7 ^% b) I
聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%
9 f A6 F2 ^( p* U8 H2 D) o3 b,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈- H$ \2 Y' [/ `" c- ?- Y8 g
米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款4 M8 j( r9 T4 W3 Z( @
OMAP 5多核心應用處理器。2 J: h4 F3 L% s" z8 }, f
另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
1 E) w+ R6 i6 ? P: y5 w為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯) N( l+ y1 p' K) [6 f( ^
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
5 v( Z# a# Z/ F及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源7 {) ?1 d0 o! Y% b9 [0 I
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)
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