- UID
- 4355
- 閱讀權限
- 45
- 精華
- 0
- 威望
- 3
- 貢獻
- 3897
- 活力
- 11257
- 金幣
- 44043
- 日誌
- 9
- 記錄
- 37
- 最後登入
- 2017-12-9
- 社區
- 臺灣
- 文章
- 9422
- 在線時間
- 1428 小時
|
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決+ D |* U% \1 Q' w
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
9 p" O/ P1 k) p" i孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠* ]! E6 Z+ U2 l! S
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。, S* D$ \* c8 h$ }5 R; N2 F
/ H. w/ s% j8 t0 a% U- n
據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
1 \. ~1 I4 U% q。4 |0 `4 A5 `- r( z' @9 B; Z; U
聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
4 i, U6 K6 w& S+ f4 ~, k2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂0 s) K) W$ ~: p4 I& r0 W: r
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
% w# L1 T: J. X z Y高到20億美元、年增25%。2 O% G! p, M/ Y% f* M
法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到) F4 Q$ }1 w! W$ ]3 \
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
8 K9 a+ L% R7 W- l2 i8 D5 T勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
( k6 {! k B/ ?; U" o" r單掌握度也愈來愈高。! Z" P- w1 h# W( b. }6 X" F
孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶; U" P H0 H& K4 v3 Q8 C2 F
片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
: Q( R6 u/ F0 `- Z! q1 h2 C方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產. U/ B0 P. b. X* F; U
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。+ \/ b' S; Y* n! W' u
孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,& ~- P! ^# s* I5 ]" L3 `4 S" o* {
完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
0 b/ Q+ L" N" u" r/ W0 I: y5 I0 w3 H以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位, k/ V" O, V3 |) X
後將帶來豐厚的收穫。
$ G2 z. Z1 u# r' ~5 B+ e 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%1 D, Y) E" {% R
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
/ v8 `& f# A( S; V9 g# H米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款
! H+ k0 o2 [" }2 _5 v0 J' NOMAP 5多核心應用處理器。9 @) q9 Y# o$ o+ n% `: O
另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
- o3 b! j/ C8 I z為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
( l6 E* q" \( P: z* z7 ?" M* L. G* R電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
3 E( _% }9 E: z, B" h, H9 a% V及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
0 A) T4 @1 D4 ]# s9 P! Q:工商時報─記者涂志豪/台北報導)8 ]4 K% U, n% [; q* i) |
6 q$ f2 t; P1 i6 x
- g. }" {- F' O; _/ M+ C
, \; E3 b- j1 g+ ^ |
|