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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置前
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
) R0 X7 X: z1 W# k: N3 E定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
) b/ Y) z. c" g$ t  H0 T  D0 L孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
4 r0 t! G9 G- Z3 Q# b2 ~的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
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 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
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 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中# |2 ]! d6 I& r
2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂2 b" H# ~3 @* D9 e) s1 w; j
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
! Z0 a' H- n( W6 G1 C9 B' U% ?高到20億美元、年增25%。  r: F4 B4 j: p' J4 p& \6 `5 H
 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到" S: C2 j4 G' y2 v7 n
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
) J7 @5 I* O$ R0 |* R勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
0 C* i5 U4 u! F( s' B, N1 L# w4 W單掌握度也愈來愈高。
: n0 S8 o& H: a  u3 z/ d 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶6 e! z5 B9 \- ~# m* d
片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決6 T8 q: N1 d$ c2 {: U9 [) U
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
! @4 O) `3 B" u( B2 e' {- I! L+ d能,所以今年資本支出將增加到20億美元。& O4 ]3 W' @6 j
 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,* F# @) N6 n# Q6 i: e1 b" q
完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,2 i  u1 y, O! R$ J* _
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位8 `" I( {6 [+ O- y" v9 |3 Z
後將帶來豐厚的收穫。
3 T3 I- j3 f/ `: ^! { 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%
+ S6 j# O+ E! |$ a, T0 M0 Q& s,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
# W) Y) S% \5 X# l( n+ X米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款
+ M( W- {; }8 j/ r+ QOMAP 5多核心應用處理器。
' s4 D3 u/ Y0 a/ s% N* O) ] 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
9 m1 p( l* P  g; S# S9 y  F2 o為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
9 {% ]' X- E8 Q$ {6 F電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
9 G& ?' u+ I' f: j% ^及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源) w0 ]( A6 X6 j' j- `2 E3 R
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)3 v/ u8 s! a: R; E" G. u

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在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
感謝分享....
把榮耀獻給父母,把榜樣留給孩子,把希望送給朋友,把約束留給自己,少一點慾望,多一點努力,快樂別人,幸福自己。奉獻一片愛,收穫心中的笑容.

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠  O( i7 [! ^. b8 U  w
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。) w+ {8 p, j$ X* ]0 f' L
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