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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決( K1 i4 D# K. n* s6 U& x1 r
定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
6 z& H0 A9 p) A4 B孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠- F1 ?* E; @( Y8 q8 y) \6 ~
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
4 K: ~0 y+ t  D9 U' I! c0 E' X# ~* \+ x) ?* A( ?
 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
0 L* i! Z/ P2 w( r2 y5 y* Z, l% {  W  N
 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
2 A& I& O, O- B7 Z6 K3 m2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂5 x- y: P. V* g3 q
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
8 h9 N, Y/ P, c2 r- w2 h  Q8 I高到20億美元、年增25%。
5 c/ {- q7 a; z 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到
! M! {" O5 @4 T/ ?今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆! s! p7 \. J+ S/ u4 f& O" f% s
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
' g) L" z6 ?7 ]% Y. ?單掌握度也愈來愈高。/ {$ i* Z- S4 K4 j
 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
5 {  e7 \! E5 [, b片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決3 M6 Q. s3 t& m+ N
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產, Y# j5 ?! g' M3 U) y3 q
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
4 F' v1 F9 _4 C+ ?* W& T/ I 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
- ~- h7 o, ^1 G" p1 T: F5 ~. d  M& ?完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,1 Y  K1 T$ e1 e  U! l' @3 Y2 \
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
% E, D1 S( Q- }" H( f' O: u後將帶來豐厚的收穫。
0 \& J0 m8 Q% e$ @ 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%# L1 I9 K) y& z7 l% g/ Y/ N
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈9 n: e/ ]$ E7 n/ S3 Z9 t
米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款) {# a* F) u: ^. c( t9 D/ C' y
OMAP 5多核心應用處理器。
7 {( S# L6 d/ B  x" ~ 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並& k. G& O; A( }5 [! J$ q3 _2 [- u
為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯& S6 M3 A4 |' l7 I
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
; b0 J8 F5 T0 ^' P9 f+ s2 r及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源- h: l2 h1 H' h& O
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)) a. z; o( F# P) o6 x! X& @

9 b: y7 Y* T, O3 j# E' z3 r! _4 O5 Y" y3 \/ d! l$ w) U% Y/ p# I+ Z

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在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
" b7 Q, t  t; r0 l的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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