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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
$ P3 F. w% r& B  P0 j, K# X定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
. F* j- h3 |! O4 p. e( D- b孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠* `* r6 h4 y! q6 D7 z3 o3 h: X
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。5 S% g- {1 N' A' l" \. l

/ \( `3 D; `# A 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
1 ^# a0 J* F1 d' ~0 r- s: y, U# l: D9 G, q. U3 N& {; I2 ^7 N5 o
 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
- u9 h' h- x$ |* S9 W2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂3 r6 u8 z. L2 C0 p
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
, A6 B9 A% n: }高到20億美元、年增25%。' @+ D& E' Z( B, b# i/ ^0 ~+ F- w
 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到: M' L  @+ i0 a+ [  z
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆
! B( g( @( H* y3 ^勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
2 s6 i$ c# ]6 Q4 @8 D+ V# K單掌握度也愈來愈高。
  f9 O, T! ?9 n 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
% J% d, Z+ v) U片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
) O! D0 S7 e+ Q方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
, x$ B" s$ w, d  z+ s7 ?9 }% u能,所以今年資本支出將增加到20億美元。, A8 k$ D8 V8 q9 p9 ~1 b
 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
  z% l/ x& f' C. ]5 A) @! Z完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
9 W% m" n, d. q- g3 q以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
" G8 N9 S. ^* Q# i4 w1 u後將帶來豐厚的收穫。
* E; d. R1 b' _ 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%4 e- ^3 y7 n4 Y0 I, C7 o4 f% n1 a
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
& N) ?& f* t0 ~; f# E& @米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款
, E' D) H% P5 A. g2 H7 {" r! AOMAP 5多核心應用處理器。; k7 s0 [$ Y- m
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
, m3 Y; J( p5 P9 L為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯" n, |9 Z6 e9 t3 y) ?8 W
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
* A; c3 j& W) K  K及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源3 E" ?$ }1 D' Z4 n% {
:工商時報─記者涂志豪/台北報導)
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在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠0 T! L: ~- |0 w) H
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
* T$ ~& d* h' {3 r" z3 j% s9 F
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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