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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
2 L- p& P4 K  N! `& x) A定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長
% ]* k% d: Y& f2 i孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
# O) h  Z$ T0 {) r的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
2 h' T& W4 Y6 z5 |
- |* v8 M1 h/ g8 f3 T6 u# V1 N. x8 @ 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
# k' q& e, H2 l+ o9 p6 U0 _
! H( S$ v, Y8 M1 v 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
* s5 |4 [- L2 V* W( c9 @2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂5 U3 \+ J& G- |  H" H
單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉3 v7 e0 \6 o7 p1 f. y- W. y
高到20億美元、年增25%。
3 @4 m. l: P  H8 { 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到$ C4 m# w- d  S6 }- ^6 \0 a) `% C  W
今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆) D$ H8 `$ w& {+ t/ b7 R
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
) l6 @  s: z4 P; R( o) C2 b單掌握度也愈來愈高。
4 ]" D( q9 F5 G8 \2 ]5 B" _ 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶
, b% Y1 v* S9 x, H7 {4 e7 z* k* n片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決
3 e# N( d, m, I方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產; q) o; J2 K! y, Y
能,所以今年資本支出將增加到20億美元。
0 L( U3 K1 G; f 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
% W4 u$ d4 d" I/ j完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,5 ?. @  x0 Z4 N. D4 C% I
以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
& h; ~' u+ R8 A7 z) o$ z後將帶來豐厚的收穫。8 n4 Y; R( `$ V# p+ m
 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%( Y3 Y! W" E6 i2 ]1 W: N; {8 @+ w
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈. E" w; v" d' }/ r
米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款, F' J' Z1 A* f: Q" |" ]
OMAP 5多核心應用處理器。7 `1 A2 z9 A7 a2 P5 c& J
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並
4 O! Q! D3 O. d# \4 A1 D+ K6 W為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯
$ u7 k7 r% t2 M5 D* ~% y電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達
5 G' Q- S3 A0 G5 q/ r3 ~+ ~* X及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
4 G) W$ Y8 y9 O* N! B2 a1 J:工商時報─記者涂志豪/台北報導)  n! \0 a' c* n/ U
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% i+ Y, \" E, s

4 p# I' s  ~% y% g
在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠1 W6 b6 P/ c* X" i& Z* t
的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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