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[趨勢看法區] 高通下單,聯電拉高資本支出

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發表於 2012-2-9 09:12:47 |只看該作者 |新文章置後
【時報-各報要聞】晶圓代工廠聯電(2303)昨(8)日召開法說會,決
/ x# t- u, E( x9 j+ ~7 O3 F定調升今年資本支出至20億美元,讓與會法人大感意外。聯電執行長% U$ J; H: }- z% q3 f4 r
孫世偉表示,因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
1 {7 w0 y  W; U5 C3 D- K2 V的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
# ?' U% Z2 I  d4 ], s  E
. |7 |) ~  Y0 l# W9 F 據了解,聯電拉高資本支出,主要原因就是獲得高通、德儀大訂單
- |( y/ q8 P7 ?9 E6 S; q; f; r, F6 ?! ?
 聯電去年原訂資本支出為18億美元,但實際支出為16億美元,其中
/ G4 h9 h) a6 e, T0 w2億美元遞延到今年,聯電因獲得高通及德儀等大客戶行動裝置晶片訂
$ o5 n8 E' D4 D5 u單,要建置足夠的40奈米及28奈米產能,所以今年資本支出合計將拉
6 R& Y8 Z9 y' W# p8 {+ U高到20億美元、年增25%。
4 }# a5 ^/ {, }- Y2 g& n9 e 法人表示,相較於台積電將資本支出由去年的72.86億美元,調降到
' }2 k, O- e4 q  f) N今年60億美元,減幅約達18%,聯電在景氣不確定性仍高的此刻,逆! J3 P6 @. x. q+ X* z& |7 b
勢拉高資本支出,代表聯電已成功提高行動裝置晶片的滲透率,對訂
9 u' }  I  c' L  b# D. y單掌握度也愈來愈高。
& n8 Y" a) [& d( V" { 孫世偉昨天表示,聯電樂觀看待未來行動通訊與運算市場的高階晶6 w8 F- P- g4 F2 }9 s$ ^4 R
片需求,為積極掌握這一絕佳的機會,完整佈建40奈米及28奈米解決# N0 }0 T3 P2 ?* @2 ]' q
方案,持續與領先客戶合作以爭取更多旗艦產品,並承諾提供充分產
' @5 q# }6 s4 G8 S! a8 I9 h能,所以今年資本支出將增加到20億美元。2 I- U+ B( W9 ]$ g  B# K5 e6 y
 孫世偉強調,聯電並不盲目擴充產能,此投資計畫經過審慎評估,
* |  a: a+ [, [' Y完整考量聯電在不同階段下高階製程成熟程度,以及客戶產能需求,
+ S0 L$ q* a9 r8 L* X3 W以現階段28奈米與客戶的合作進展及強烈需求,相信在量產技術就位
  L) t! S) f  l+ @( B! G* @6 D) Z- ?" I後將帶來豐厚的收穫。+ {" v* m7 {; _8 E; u
 聯電預估,今年底40奈米佔營收比重將達15%,28奈米亦可達到5%. D' X  U! f$ A$ t1 @0 v! H' Q6 `5 F
,聯電已完成10項28奈米晶片設計定案(tape-out),其中一顆28奈
/ a4 `3 h- o. l/ j8 x米的ARM架構應用處理器已開始送樣。據了解,這顆晶片是德儀最新款
7 i* P0 c/ G/ v4 p" R9 I, zOMAP 5多核心應用處理器。" f' a( o/ t6 V; E$ g
 另外,聯電也開始佈建2.5D矽中介層(Interposer)解決方案,並3 A) L. P, f" j3 h, O  R0 O- H/ ]
為客戶完成40奈米及28奈米製程矽中介層設計定案。孫世偉表示,聯0 D" H+ K1 }! l3 |
電與封測廠將建立開放式技術平台,以提供最適切的服務,與爾必達8 A4 T6 S3 B7 J( i$ T0 O% I
及力成合作的直通矽晶穿孔(TSV)技術已有很好的成果。(新聞來源
8 ?# b$ N: c/ Y' B/ T$ z. `:工商時報─記者涂志豪/台北報導)' a: r! b/ n' ?, v, ~% r
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在股票及期貨市場,散戶投資人成功的不二法門不外乎兩種,一是非常幸運;一是非常自律

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發表於 2012-2-10 07:37:14 |只看該作者
因為看好行動裝置晶片需求,且為了承諾客戶提供足夠
0 e4 A7 ~) Y- c  _! w/ t的40奈米及28奈米產能,所以才決定提高今年資本支出。
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發表於 2012-2-11 20:35:51 |只看該作者
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